Computer Simulation of the Thin Film’s Growth Process during Thermal Vacuum Evaporation
Abstract
The various thin film growth mechanisms during thermal vacuum evaporation at atomic level are considered under different condition. Which factors and how influence on the quality of obtained thin films was demonstrated. The thin film’s growth process in intermediately (Stranski-Krastanov) mode was simulated based on Monte Carlo method for determination of active particles’ number, and quasi-Newtonian lattice method for determination of optimal direction of particles’ motion. On this model in any given conditions the fractal growth process was analyzed. The phenomenon (opportunity) of the control and management of the growth process of thin films was considered.
References
1. Физико-химические процессы синтеза наноразмерных объектов / В. А. Жабрев, В. Т. Калинников, В. И. Марголин и др. СПб.: Элмор, 2012. 328 с.
2. Компьютерное моделирование процессов синтеза наноразмерных плёнок / В. И. Марголин, Л. Ю. Аммон, Д. А. Бабичев, В. С. Фантиков, Чу Чонг Шы // Изв. Академии инженерных наук им. А. М. Прохорова. 2015. № 1. С. 7-13.
3. Modeling Processes of Nanoparticle Synthesis and Analyzing the Results via SEM / V. A. Zhabrev, V. I. Margolin, V. A. Tupik, Chu Trong Su // Bul. of the Russian Academy of Sciences. Physics. 2015. Vol. 79, № 11. P. 1498-1500.
4. Simulating the Aggregation of Nanoparticles on a Substrate Surface upon Vacuum Deposition / V. A. Zhabrev, V. I. Margolin, V.A. Tupik, Chu Trong Su // J. of Surface Investigation, X-Ray, Synchrotron and Neutron Techniques. 2015. Vol. 9, № 5. P. 877-879.
5. Марголин В. И., Жабрев В. А., Тупик В. А. Физические основы микроэлектроники : учеб. для студ. высш. учеб. заведений. М.: Академия, 2008. 400 с.
6. Чу Чонг Шы, Бабичев Д. А. Моделирование процессов массопереноса при термическом вакуумном напылении тонких пленок // Сб. докл. 67-й науч.-техн. конф. профессорско-преподавательского состава электротехнического университета "ЛЭТИ", СПб., 27 янв.-3 февр. 2014 г. СПб.: Изд-во СПбГЭТУ "ЛЭТИ", 2014. С. 29-33.
7. Rieth М. Nano-Engineering in Science and Technology: An Introduction to the World of Nano-Design // Series on the Foundations of Natural Science and Technology. Vol. 6. New Jersey: World Scientific, 2003. 163 p.
8. Ибрагимов И. М., Ковшов А. Н., Назаров Ю. Ф. Основы компьютерного моделирования наносистем. СПб.: Лань, 2010. 376 с.
9. Введение в физику поверхности / К. Оура, В. Г. Лифшиц, А. А. Саранин и др. М.: Наука, 2006. 490 с.
10. Свид. о гос. регистр. программы для ЭВМ RU 2015610052. Компьютерное моделирование процесса роста тонких пленок в потенциальном поле (Рост тонких пленок) / В. И. Марголин, Чу Чонг Шы. Опубл. 20.02.2015.
Review
For citations:
Chu T.S. Computer Simulation of the Thin Film’s Growth Process during Thermal Vacuum Evaporation. Journal of the Russian Universities. Radioelectronics. 2016;(6):22-31. (In Russ.)
Views:
496
Email this article 